热烈祝贺东方集成功在上海某研究所安装了SENTECH SI500D等离子体沉积系统就像一位精通嵌入式
2012年3月,东方集成在上海某研究所里实现了一项重大突破——成功搭建了SENTECH SI500D等离子体沉积系统。这个SI500D设备是一台先进的ICP-PECVD机器,能够精确地在基片上形成SiOx、SiOxNy或SiNy薄膜,并且可以通过简单的手段来调节这些薄膜的厚度、折射率和应力。这不仅是中国境内首次引入带有LOADLOCK功能的SI500D等离子沉积系统,也标志着SENTECH ICP-PECVD设备在中国市场的登陆。此次安装工作得到了德国原厂技术支持工程师与东方集成工程师共同努力完成,他们还一致决定为此提供售后保修服务,这无疑是一件值得纪念的事情。本次合作不仅展现了东方集成坚持完美完成每一项任务的承诺精神,同时也证明了SENTECH与东方集成携手共创,在等离子体刻蚀和沉积系统领域取得了显著进展,为双方未来的合作奠定了坚实基础。